Etude de composés organométalliques du titane précurseurs de carbures, nitrures et siliciures par dépôt chimique en phase vapeur / Chansou, Benoît  

Public ISBD Titre : Etude de composés organométalliques du titane précurseurs de carbures, nitrures et siliciures par dépôt chimique en phase vapeur Titre original : Study of titanium organometallic compounds precursor to carbides, nitrides and silicides by chemical vapor deposition Type de document : texte imprimé Auteurs : Chansou, Benoît, Auteur ; Valade, Lydie, Directeur de thèse Année de publication : 1996 Langues : Français (fre) Tags : COMPOSES ORGANOMÉTALLIQUES  DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  TITANE-COMPOSES ORGANIQUES  COUCHES MINCES  THERMOGRAVIMÉTRIE ORGANOMETALLIC COMPOUNDS  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION  TITANIUM-ORGANIC COMPOUNDS  THIN FILMS  THERMOGRAVIMETRY Résumé : "Le recouvrement de pièces massives par des films minces céramiques permet d'ajouter des propriétés de surface (mécanique, électronique, optique,) aux propriétés de volume inhérentes à la pièce. Parmi les nombreuses techniques permettant la réalisation des films céramiques, l'o. M. C. V. D. (dépôt chimique en phase vapeur à partir de composés organométalliques) possède le double avantage de permettre des dépôts a basse température et sur des pièces de formes complexes. Ce mémoire rend compte de la synthèse et de l'étude de composés organométalliques précurseurs potentiels de carbures, nitrures et siliciures de titane. L'étude du comportement thermique des composés synthétisés, effectuée par analyse thermique gravimétrique et analyse thermique différentielle, couplées à de la spectrométrie de masse, permet d'étudier le transport des composés en phase gazeuse et la corrélation entre les produits issus de leur décomposition et les céramiques désirées. Ces études sont mises à profit lors de la réalisation des dépôts par c. V. D. En permettant un choix judicieux des paramètres expérimentaux. Les techniques d'analyse de surface habituelles (m. E. B., e. D. S., e. P. M. A., x. P. S., r. X.) sont utilisées pour la caractérisation des dépôts." "The covering of massive parts with ceramic thin films makes it possible to add surface properties (mechanical, electronic, optical,) to the inherent volume properties of the part. Among the numerous techniques allowing the production of ceramic films, o. M. C. V. D. (chemical vapor deposition from organometallic compounds) has the double advantage of allowing deposits at low temperature and on parts with complex shapes. This thesis reports on the synthesis and study of organometallic compounds, potential precursors of titanium carbides, nitrides and silicides. The study of the thermal behavior of the synthesized compounds, carried out by gravimetric thermal analysis and differential thermal analysis, coupled with mass spectrometry, makes it possible to study the transport of compounds in the gas phase and the correlation between the products resulting from their decomposition and the desired ceramics. These studies are used during the production of c. V. D. deposits. By allowing a judicious choice of experimental parameters. The techniques usual surface analysis methods (m. E. B., e. D. S., e. P. M. A., x. P. S., r. X.) are used for the characterization of deposits." Document : Thèse de Doctorat Etablissement_delivrance : Université de Toulouse 3 Date_soutenance : 29/05/1996 Domaine : Chimie Moléculaire et Matér. Localisation : LCC En ligne : https://theses.fr/1996TOU30072 Etude de composés organométalliques du titane précurseurs de carbures, nitrures et siliciures par dépôt chimique en phase vapeur = Study of titanium organometallic compounds precursor to carbides, nitrides and silicides by chemical vapor deposition [texte imprimé] / Chansou, Benoît, Auteur ; Valade, Lydie, Directeur de thèse . - 1996. Langues : Français (fre) Tags : COMPOSES ORGANOMÉTALLIQUES  DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  TITANE-COMPOSES ORGANIQUES  COUCHES MINCES  THERMOGRAVIMÉTRIE ORGANOMETALLIC COMPOUNDS  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION  TITANIUM-ORGANIC COMPOUNDS  THIN FILMS  THERMOGRAVIMETRY Résumé : "Le recouvrement de pièces massives par des films minces céramiques permet d'ajouter des propriétés de surface (mécanique, électronique, optique,) aux propriétés de volume inhérentes à la pièce. Parmi les nombreuses techniques permettant la réalisation des films céramiques, l'o. M. C. V. D. (dépôt chimique en phase vapeur à partir de composés organométalliques) possède le double avantage de permettre des dépôts a basse température et sur des pièces de formes complexes. Ce mémoire rend compte de la synthèse et de l'étude de composés organométalliques précurseurs potentiels de carbures, nitrures et siliciures de titane. L'étude du comportement thermique des composés synthétisés, effectuée par analyse thermique gravimétrique et analyse thermique différentielle, couplées à de la spectrométrie de masse, permet d'étudier le transport des composés en phase gazeuse et la corrélation entre les produits issus de leur décomposition et les céramiques désirées. Ces études sont mises à profit lors de la réalisation des dépôts par c. V. D. En permettant un choix judicieux des paramètres expérimentaux. Les techniques d'analyse de surface habituelles (m. E. B., e. D. S., e. P. M. A., x. P. S., r. X.) sont utilisées pour la caractérisation des dépôts." "The covering of massive parts with ceramic thin films makes it possible to add surface properties (mechanical, electronic, optical,) to the inherent volume properties of the part. Among the numerous techniques allowing the production of ceramic films, o. M. C. V. D. (chemical vapor deposition from organometallic compounds) has the double advantage of allowing deposits at low temperature and on parts with complex shapes. This thesis reports on the synthesis and study of organometallic compounds, potential precursors of titanium carbides, nitrides and silicides. The study of the thermal behavior of the synthesized compounds, carried out by gravimetric thermal analysis and differential thermal analysis, coupled with mass spectrometry, makes it possible to study the transport of compounds in the gas phase and the correlation between the products resulting from their decomposition and the desired ceramics. These studies are used during the production of c. V. D. deposits. By allowing a judicious choice of experimental parameters. The techniques usual surface analysis methods (m. E. B., e. D. S., e. P. M. A., x. P. S., r. X.) are used for the characterization of deposits." Document : Thèse de Doctorat Etablissement_delivrance : Université de Toulouse 3 Date_soutenance : 29/05/1996 Domaine : Chimie Moléculaire et Matér. Localisation : LCC En ligne : https://theses.fr/1996TOU30072

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