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'REVETEMENT DUR'
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Titre : |
Revêtements durs et adhérents par dépôt chimique |
Titre original : |
Hard and adherent coatings by chemical vapour deposition |
Type de document : |
texte imprimé |
Auteurs : |
Michel Ducarroir, Éditeur scientifique |
Editeur : |
Paris : Elsevier |
Année de publication : |
1998 |
Collection : |
Annales de chimie, science des matériaux, ISSN 0151-9107 num. 23, 5-6 |
Importance : |
p. 629-898 |
Format : |
24 cm |
Langues : |
Français (fre) Anglais (eng) |
Catégories : |
Technologies, Méthodes, Réactions
|
Tags : |
REVETEMENT DUR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR HARD COATING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION |
Index. décimale : |
B-B |
Note de contenu : |
"* Précurseurs métallorganiques pour le dépôt chimique à partir d'une phase gazeuse de revêtements dans le système Ti-V-C-N
* Problèmes spécifiques liés à la vaporisation des précurseurs organométalliques solides utilisés pour les dépôts dans le système V-C-N
* Mécanisme de décomposition des composés M(NEt2)4(M = V, Cr) lors de leur utilisation comme mono source pour la croissance de films M-C-N par MOCVD
* Dépôt de Cr à basse température par MOCVD : inhibition de l'incorporation du carbone
* Dépôt chimique en phase vapeur à basse température de revêtements dans le système V-C-N à partir de bis(arene)vanadium
* Prétraitements de nitruration compatibles avec les procédés MOCVD et PACVD : influence sur l'adhérence de revêtements céramiques sur acier." |
Cote : |
B-B145 (SdS) |
Num_Inv : |
2386 |
Revêtements durs et adhérents par dépôt chimique = Hard and adherent coatings by chemical vapour deposition [texte imprimé] / Michel Ducarroir, Éditeur scientifique . - Paris : Elsevier, 1998 . - p. 629-898 ; 24 cm. - ( Annales de chimie, science des matériaux, ISSN 0151-9107; 23, 5-6) . Langues : Français ( fre) Anglais ( eng)
Catégories : |
Technologies, Méthodes, Réactions
|
Tags : |
REVETEMENT DUR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR HARD COATING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION |
Index. décimale : |
B-B |
Note de contenu : |
"* Précurseurs métallorganiques pour le dépôt chimique à partir d'une phase gazeuse de revêtements dans le système Ti-V-C-N
* Problèmes spécifiques liés à la vaporisation des précurseurs organométalliques solides utilisés pour les dépôts dans le système V-C-N
* Mécanisme de décomposition des composés M(NEt2)4(M = V, Cr) lors de leur utilisation comme mono source pour la croissance de films M-C-N par MOCVD
* Dépôt de Cr à basse température par MOCVD : inhibition de l'incorporation du carbone
* Dépôt chimique en phase vapeur à basse température de revêtements dans le système V-C-N à partir de bis(arene)vanadium
* Prétraitements de nitruration compatibles avec les procédés MOCVD et PACVD : influence sur l'adhérence de revêtements céramiques sur acier." |
Cote : |
B-B145 (SdS) |
Num_Inv : |
2386 |
| |
Exemplaires(1)
2386
|
B-B145 |
Texte imprimé |
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Livre
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