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Complexes du titane et du vanadium. Vers le système céramique quaternaire V.Ti.C.N. par dépôt chimique en phase vapeur / Danjoy, Christine  

Public ISBD Titre : Complexes du titane et du vanadium. Vers le système céramique quaternaire V.Ti.C.N. par dépôt chimique en phase vapeur Titre original : Titanium and vanadium complexes towards V. Ti. C. N. By CVD Type de document : texte imprimé Auteurs : Danjoy, Christine, Auteur ; Valade, Lydie, Directeur de thèse Année de publication : 1996 Langues : Français (fre) Tags : MATÉRIAUX CÉRAMIQUES  TECHNOLOGIE  DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  THERMOGRAVIMÉTRIE  TITANE-COMPOSES ORGANIQUES  VANADIUM-COMPOSES ORGANIQUES CERAMIC MATERIALS  TECHNOLOGY  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION  THERMOGRAVIMETRY  TITANIUM-ORGANIC COMPOUNDS  VANADIUM-ORGANIC COMPOUNDS Résumé : "Cette thèse rend compte d'une étude de faisabilité d'une céramique quaternaire carbonitrure de titane et de vanadium (V. Ti. C. N. ), par dépôt chimique en phase vapeur a partir de précurseurs organométalliques (O. M. C. V. D. ). La première approche de ce problème a consiste en la formation de cette céramique a partir de la co-décomposition de deux composes organométalliques, l'un précurseur de carbonitrure titane, CpTiCl?N(SiMe?)? (Cp = C?H?, Me = CH?) ; l'autre précurseur de carbure de vanadium, Cp?VMe?(Cp = C?H?, Me = CH?). La seconde approche a été basée sur la synthèse d'un précurseur unique hétérobimétallique du titane et du vanadium. Un complexe bimétallique a été synthétisé et caractérisé Cp?Ti(C=CC?H?)(C=CCH?)VCp?. Ce travail a impliqué une part importante de synthèse chimique de composés organométalliques et leur caractérisation, notamment par analyse thermogravimétrique et différentielle couplée à la spectrométrie de masse des effluents gazeux de décomposition. Les résultats obtenus ont permis de sélectionner, parmi les composes synthétises, ceux qui offrent les caractéristiques répondant au mieux aux critères CVD et a ceux spécifies dans le contrat optimisation de revêtements durs et adhérents par dépôts chimiques qui a finance ce travail. Des revêtements sur acier ont ensuite été élaborés par C. V. D. à partir de Cp?VMe? et de CpTiCl?N(SiMe?)?. Les films ont été caractérisés par les techniques habituelles d'analyse de surfaces X.P.S., E.D.S., diffraction des rayons X et microscopie électronique." "This thesis reports on a feasibility study of a quaternary titanium vanadium carbonitride (V. Ti. C. N.) ceramic, by chemical vapor deposition from organometallic precursors (O. M. C. V. D.). The first approach to this problem consisted in the formation of this ceramic from the co-decomposition of two organometallic compounds, one a titanium carbonitride precursor, CpTiCl?N(SiMe?) ? (Cp = C?H?, Me = CH?); the other a vanadium carbide precursor, Cp?VMe? (Cp = C?H?, Me = CH?). The second approach was based on the synthesis of a single heterobimetallic precursor of titanium and vanadium. A bimetallic complex was synthesized and characterized Cp?Ti(C=CC?H?) (C=CCH?) VCp?. This work involved a significant part of chemical synthesis of organometallic compounds and their characterization, in particular by thermogravimetric and differential analysis coupled with mass spectrometry of the decomposition gas effluents. The results obtained made it possible to select, among the synthesized compounds, those which offer the characteristics best meeting the CVD criteria and those specified in the contract for optimization of hard and adherent coatings by chemical deposition which financed this work. Coatings on steel were then developed by C. V. D. from Cp?VMe? and CpTiCl?N(SiMe?) ?. The films were characterized by the usual techniques of surface analysis X.P.S., E.D.S., X-ray diffraction and electron microscopy." Document : Thèse de Doctorat Etablissement_delivrance : Toulouse INPT Date_soutenance : 01/10/1996 Domaine : Chimie Moléculaire et Matériaux Localisation : LCC En ligne : https://theses.fr/1996INPT015G Complexes du titane et du vanadium. Vers le système céramique quaternaire V.Ti.C.N. par dépôt chimique en phase vapeur = Titanium and vanadium complexes towards V. Ti. C. N. By CVD [texte imprimé] / Danjoy, Christine, Auteur ; Valade, Lydie, Directeur de thèse . - 1996. Langues : Français (fre) Tags : MATÉRIAUX CÉRAMIQUES  TECHNOLOGIE  DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  THERMOGRAVIMÉTRIE  TITANE-COMPOSES ORGANIQUES  VANADIUM-COMPOSES ORGANIQUES CERAMIC MATERIALS  TECHNOLOGY  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION  THERMOGRAVIMETRY  TITANIUM-ORGANIC COMPOUNDS  VANADIUM-ORGANIC COMPOUNDS Résumé : "Cette thèse rend compte d'une étude de faisabilité d'une céramique quaternaire carbonitrure de titane et de vanadium (V. Ti. C. N. ), par dépôt chimique en phase vapeur a partir de précurseurs organométalliques (O. M. C. V. D. ). La première approche de ce problème a consiste en la formation de cette céramique a partir de la co-décomposition de deux composes organométalliques, l'un précurseur de carbonitrure titane, CpTiCl?N(SiMe?)? (Cp = C?H?, Me = CH?) ; l'autre précurseur de carbure de vanadium, Cp?VMe?(Cp = C?H?, Me = CH?). La seconde approche a été basée sur la synthèse d'un précurseur unique hétérobimétallique du titane et du vanadium. Un complexe bimétallique a été synthétisé et caractérisé Cp?Ti(C=CC?H?)(C=CCH?)VCp?. Ce travail a impliqué une part importante de synthèse chimique de composés organométalliques et leur caractérisation, notamment par analyse thermogravimétrique et différentielle couplée à la spectrométrie de masse des effluents gazeux de décomposition. Les résultats obtenus ont permis de sélectionner, parmi les composes synthétises, ceux qui offrent les caractéristiques répondant au mieux aux critères CVD et a ceux spécifies dans le contrat optimisation de revêtements durs et adhérents par dépôts chimiques qui a finance ce travail. Des revêtements sur acier ont ensuite été élaborés par C. V. D. à partir de Cp?VMe? et de CpTiCl?N(SiMe?)?. Les films ont été caractérisés par les techniques habituelles d'analyse de surfaces X.P.S., E.D.S., diffraction des rayons X et microscopie électronique." "This thesis reports on a feasibility study of a quaternary titanium vanadium carbonitride (V. Ti. C. N.) ceramic, by chemical vapor deposition from organometallic precursors (O. M. C. V. D.). The first approach to this problem consisted in the formation of this ceramic from the co-decomposition of two organometallic compounds, one a titanium carbonitride precursor, CpTiCl?N(SiMe?) ? (Cp = C?H?, Me = CH?); the other a vanadium carbide precursor, Cp?VMe? (Cp = C?H?, Me = CH?). The second approach was based on the synthesis of a single heterobimetallic precursor of titanium and vanadium. A bimetallic complex was synthesized and characterized Cp?Ti(C=CC?H?) (C=CCH?) VCp?. This work involved a significant part of chemical synthesis of organometallic compounds and their characterization, in particular by thermogravimetric and differential analysis coupled with mass spectrometry of the decomposition gas effluents. The results obtained made it possible to select, among the synthesized compounds, those which offer the characteristics best meeting the CVD criteria and those specified in the contract for optimization of hard and adherent coatings by chemical deposition which financed this work. Coatings on steel were then developed by C. V. D. from Cp?VMe? and CpTiCl?N(SiMe?) ?. The films were characterized by the usual techniques of surface analysis X.P.S., E.D.S., X-ray diffraction and electron microscopy." Document : Thèse de Doctorat Etablissement_delivrance : Toulouse INPT Date_soutenance : 01/10/1996 Domaine : Chimie Moléculaire et Matériaux Localisation : LCC En ligne : https://theses.fr/1996INPT015G

Composés organométalliques précurseurs de carbure et de nitrure de vanadium par dépôt chimique en phase vapeur / Cyr-Athis, Olivier  

Public ISBD Titre : Composés organométalliques précurseurs de carbure et de nitrure de vanadium par dépôt chimique en phase vapeur Titre original : Organometallic compounds precursors of vanadium carbide and nitride by chemical vapor deposition Type de document : texte imprimé Auteurs : Cyr-Athis, Olivier, Auteur ; Choukroun, Robert, Directeur de thèse Année de publication : 1994 Langues : Français (fre) Tags : VANADIUM-COMPOSES  DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  COMPOSES ORGANOMÉTALLIQUES VANADIUM COMPOUNDS  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION  ORGANOMETALLIC COMPOUNDS Résumé : "Jusqu'à présent l'obtention des céramiques carbure et nitrure de vanadium, par dépôt chimique en phase vapeur, nécessitaient l'utilisation de hautes températures (de l'ordre de 1000c). L'emploi de précurseurs organométalliques permet de diminuer fortement ces températures. Dans ce cadre, notre travail consiste à vérifier la faisabilité de films de nitrure ou de carbure de vanadium à partir de différents composés choisis selon des critères prédéfinis. Pour chacun des composés: nous rappelons la mise au point de la synthèse; nous faisons l'étude thermique par analyse thermique gravimétrique et différentielle à la fois à pression atmosphérique et à pression réduite; les dépôts sont faits dans un appareillage à mur chaud sous gaz vecteur neutre (azote), à pression réduite et pour des températures inférieures ou égales à 600c; les dépôts obtenus sont caractérisés en microscopie électronique à balayage, en spectrométrie de dispersion d’énergie et en spectrométrie des photoélectrons induits par rayons X. A la suite d'une étude sur neuf composés du vanadium, certains n'ont pas donné de resultats satisfaisants dans nos conditions expérimentales : le vanadocène (pas de dépôts a moins de 600c); le dichlorovanadocene, le dichloro bis (methylcyclopentadienyl) vanadium, le trichloro (p-tolylimido) vanadium (dépôts de carbure de vanadium uniquement sur silicium); le tris bis(triméthylsilyl)amido vanadium (dépôts contenant du silicium, du carbone et du vanadium). Nous avons dégagé quelques composés comme le chloro bis(cyclopentadiényl) vanadium et l'azobenzène bis(cyclopentadiényl) vanadium le diméthyl bis (cyclopentadiényl) vanadium, le bis (tertiobutylcyclopentadienyl) vanadiums susceptibles d'être transférés en aval, a des laboratoires spécialisés en dépôt chimique en phase vapeur, afin de poursuivre leur étude en tant que précurseur de carbure ou de nitrure de vanadium." "Until now, obtaining vanadium carbide and nitride ceramics by chemical vapor deposition required the use of high temperatures (around 1000c). The use of organometallic precursors makes it possible to significantly reduce these temperatures. In this context, our work consists of verifying the feasibility of vanadium nitride or carbide films from different compounds chosen according to predefined criteria. For each of the compounds: we recall the development of the synthesis; we carry out the thermal study by gravimetric and differential thermal analysis at both atmospheric pressure and reduced pressure; the deposits are made in a hot wall apparatus under neutral vector gas (nitrogen), at reduced pressure and for temperatures less than or equal to 600c; the deposits obtained are characterized by scanning electron microscopy, energy dispersive spectrometry and X-ray induced photoelectron spectrometry. Following a study on nine vanadium compounds, some did not give satisfactory results under our experimental conditions: vanadocene (no deposits below 600c); dichlorovanadocene, dichloro bis (methylcyclopentadienyl) vanadium, trichloro (p-tolylimido) vanadium (vanadium carbide deposits only on silicon); tris bis (trimethylsilyl) amido vanadium (deposits containing silicon, carbon and vanadium). We have released some compounds such as chloro bis (cyclopentadienyl) vanadium and azobenzene bis (cyclopentadienyl) vanadium, dimethyl bis (cyclopentadienyl) vanadium, bis (tertiobutylcyclopentadienyl) vanadiums that could be transferred downstream to laboratories specialized in chemical vapor deposition, in order to continue their study as precursors of vanadium carbide or nitride." Document : Thèse de Doctorat Etablissement_delivrance : Université de Toulouse 3 Date_soutenance : 10/01/1994 Ecole_doctorale : Sciences de la Matière Domaine : Science des Matériaux Localisation : LCC En ligne : https://theses.fr/1994INPT021G Composés organométalliques précurseurs de carbure et de nitrure de vanadium par dépôt chimique en phase vapeur = Organometallic compounds precursors of vanadium carbide and nitride by chemical vapor deposition [texte imprimé] / Cyr-Athis, Olivier, Auteur ; Choukroun, Robert, Directeur de thèse . - 1994. Langues : Français (fre) Tags : VANADIUM-COMPOSES  DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  COMPOSES ORGANOMÉTALLIQUES VANADIUM COMPOUNDS  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION  ORGANOMETALLIC COMPOUNDS Résumé : "Jusqu'à présent l'obtention des céramiques carbure et nitrure de vanadium, par dépôt chimique en phase vapeur, nécessitaient l'utilisation de hautes températures (de l'ordre de 1000c). L'emploi de précurseurs organométalliques permet de diminuer fortement ces températures. Dans ce cadre, notre travail consiste à vérifier la faisabilité de films de nitrure ou de carbure de vanadium à partir de différents composés choisis selon des critères prédéfinis. Pour chacun des composés: nous rappelons la mise au point de la synthèse; nous faisons l'étude thermique par analyse thermique gravimétrique et différentielle à la fois à pression atmosphérique et à pression réduite; les dépôts sont faits dans un appareillage à mur chaud sous gaz vecteur neutre (azote), à pression réduite et pour des températures inférieures ou égales à 600c; les dépôts obtenus sont caractérisés en microscopie électronique à balayage, en spectrométrie de dispersion d’énergie et en spectrométrie des photoélectrons induits par rayons X. A la suite d'une étude sur neuf composés du vanadium, certains n'ont pas donné de resultats satisfaisants dans nos conditions expérimentales : le vanadocène (pas de dépôts a moins de 600c); le dichlorovanadocene, le dichloro bis (methylcyclopentadienyl) vanadium, le trichloro (p-tolylimido) vanadium (dépôts de carbure de vanadium uniquement sur silicium); le tris bis(triméthylsilyl)amido vanadium (dépôts contenant du silicium, du carbone et du vanadium). Nous avons dégagé quelques composés comme le chloro bis(cyclopentadiényl) vanadium et l'azobenzène bis(cyclopentadiényl) vanadium le diméthyl bis (cyclopentadiényl) vanadium, le bis (tertiobutylcyclopentadienyl) vanadiums susceptibles d'être transférés en aval, a des laboratoires spécialisés en dépôt chimique en phase vapeur, afin de poursuivre leur étude en tant que précurseur de carbure ou de nitrure de vanadium." "Until now, obtaining vanadium carbide and nitride ceramics by chemical vapor deposition required the use of high temperatures (around 1000c). The use of organometallic precursors makes it possible to significantly reduce these temperatures. In this context, our work consists of verifying the feasibility of vanadium nitride or carbide films from different compounds chosen according to predefined criteria. For each of the compounds: we recall the development of the synthesis; we carry out the thermal study by gravimetric and differential thermal analysis at both atmospheric pressure and reduced pressure; the deposits are made in a hot wall apparatus under neutral vector gas (nitrogen), at reduced pressure and for temperatures less than or equal to 600c; the deposits obtained are characterized by scanning electron microscopy, energy dispersive spectrometry and X-ray induced photoelectron spectrometry. Following a study on nine vanadium compounds, some did not give satisfactory results under our experimental conditions: vanadocene (no deposits below 600c); dichlorovanadocene, dichloro bis (methylcyclopentadienyl) vanadium, trichloro (p-tolylimido) vanadium (vanadium carbide deposits only on silicon); tris bis (trimethylsilyl) amido vanadium (deposits containing silicon, carbon and vanadium). We have released some compounds such as chloro bis (cyclopentadienyl) vanadium and azobenzene bis (cyclopentadienyl) vanadium, dimethyl bis (cyclopentadienyl) vanadium, bis (tertiobutylcyclopentadienyl) vanadiums that could be transferred downstream to laboratories specialized in chemical vapor deposition, in order to continue their study as precursors of vanadium carbide or nitride." Document : Thèse de Doctorat Etablissement_delivrance : Université de Toulouse 3 Date_soutenance : 10/01/1994 Ecole_doctorale : Sciences de la Matière Domaine : Science des Matériaux Localisation : LCC En ligne : https://theses.fr/1994INPT021G

Etude de composés organométalliques du titane précurseurs de carbures, nitrures et siliciures par dépôt chimique en phase vapeur / Chansou, Benoît  

Public ISBD Titre : Etude de composés organométalliques du titane précurseurs de carbures, nitrures et siliciures par dépôt chimique en phase vapeur Titre original : Study of titanium organometallic compounds precursor to carbides, nitrides and silicides by chemical vapor deposition Type de document : texte imprimé Auteurs : Chansou, Benoît, Auteur ; Valade, Lydie, Directeur de thèse Année de publication : 1996 Langues : Français (fre) Tags : COMPOSES ORGANOMÉTALLIQUES  DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  TITANE-COMPOSES ORGANIQUES  COUCHES MINCES  THERMOGRAVIMÉTRIE ORGANOMETALLIC COMPOUNDS  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION  TITANIUM-ORGANIC COMPOUNDS  THIN FILMS  THERMOGRAVIMETRY Résumé : "Le recouvrement de pièces massives par des films minces céramiques permet d'ajouter des propriétés de surface (mécanique, électronique, optique,) aux propriétés de volume inhérentes à la pièce. Parmi les nombreuses techniques permettant la réalisation des films céramiques, l'o. M. C. V. D. (dépôt chimique en phase vapeur à partir de composés organométalliques) possède le double avantage de permettre des dépôts a basse température et sur des pièces de formes complexes. Ce mémoire rend compte de la synthèse et de l'étude de composés organométalliques précurseurs potentiels de carbures, nitrures et siliciures de titane. L'étude du comportement thermique des composés synthétisés, effectuée par analyse thermique gravimétrique et analyse thermique différentielle, couplées à de la spectrométrie de masse, permet d'étudier le transport des composés en phase gazeuse et la corrélation entre les produits issus de leur décomposition et les céramiques désirées. Ces études sont mises à profit lors de la réalisation des dépôts par c. V. D. En permettant un choix judicieux des paramètres expérimentaux. Les techniques d'analyse de surface habituelles (m. E. B., e. D. S., e. P. M. A., x. P. S., r. X.) sont utilisées pour la caractérisation des dépôts." "The covering of massive parts with ceramic thin films makes it possible to add surface properties (mechanical, electronic, optical,) to the inherent volume properties of the part. Among the numerous techniques allowing the production of ceramic films, o. M. C. V. D. (chemical vapor deposition from organometallic compounds) has the double advantage of allowing deposits at low temperature and on parts with complex shapes. This thesis reports on the synthesis and study of organometallic compounds, potential precursors of titanium carbides, nitrides and silicides. The study of the thermal behavior of the synthesized compounds, carried out by gravimetric thermal analysis and differential thermal analysis, coupled with mass spectrometry, makes it possible to study the transport of compounds in the gas phase and the correlation between the products resulting from their decomposition and the desired ceramics. These studies are used during the production of c. V. D. deposits. By allowing a judicious choice of experimental parameters. The techniques usual surface analysis methods (m. E. B., e. D. S., e. P. M. A., x. P. S., r. X.) are used for the characterization of deposits." Document : Thèse de Doctorat Etablissement_delivrance : Université de Toulouse 3 Date_soutenance : 29/05/1996 Domaine : Chimie Moléculaire et Matér. Localisation : LCC En ligne : https://theses.fr/1996TOU30072 Etude de composés organométalliques du titane précurseurs de carbures, nitrures et siliciures par dépôt chimique en phase vapeur = Study of titanium organometallic compounds precursor to carbides, nitrides and silicides by chemical vapor deposition [texte imprimé] / Chansou, Benoît, Auteur ; Valade, Lydie, Directeur de thèse . - 1996. Langues : Français (fre) Tags : COMPOSES ORGANOMÉTALLIQUES  DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  TITANE-COMPOSES ORGANIQUES  COUCHES MINCES  THERMOGRAVIMÉTRIE ORGANOMETALLIC COMPOUNDS  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION  TITANIUM-ORGANIC COMPOUNDS  THIN FILMS  THERMOGRAVIMETRY Résumé : "Le recouvrement de pièces massives par des films minces céramiques permet d'ajouter des propriétés de surface (mécanique, électronique, optique,) aux propriétés de volume inhérentes à la pièce. Parmi les nombreuses techniques permettant la réalisation des films céramiques, l'o. M. C. V. D. (dépôt chimique en phase vapeur à partir de composés organométalliques) possède le double avantage de permettre des dépôts a basse température et sur des pièces de formes complexes. Ce mémoire rend compte de la synthèse et de l'étude de composés organométalliques précurseurs potentiels de carbures, nitrures et siliciures de titane. L'étude du comportement thermique des composés synthétisés, effectuée par analyse thermique gravimétrique et analyse thermique différentielle, couplées à de la spectrométrie de masse, permet d'étudier le transport des composés en phase gazeuse et la corrélation entre les produits issus de leur décomposition et les céramiques désirées. Ces études sont mises à profit lors de la réalisation des dépôts par c. V. D. En permettant un choix judicieux des paramètres expérimentaux. Les techniques d'analyse de surface habituelles (m. E. B., e. D. S., e. P. M. A., x. P. S., r. X.) sont utilisées pour la caractérisation des dépôts." "The covering of massive parts with ceramic thin films makes it possible to add surface properties (mechanical, electronic, optical,) to the inherent volume properties of the part. Among the numerous techniques allowing the production of ceramic films, o. M. C. V. D. (chemical vapor deposition from organometallic compounds) has the double advantage of allowing deposits at low temperature and on parts with complex shapes. This thesis reports on the synthesis and study of organometallic compounds, potential precursors of titanium carbides, nitrides and silicides. The study of the thermal behavior of the synthesized compounds, carried out by gravimetric thermal analysis and differential thermal analysis, coupled with mass spectrometry, makes it possible to study the transport of compounds in the gas phase and the correlation between the products resulting from their decomposition and the desired ceramics. These studies are used during the production of c. V. D. deposits. By allowing a judicious choice of experimental parameters. The techniques usual surface analysis methods (m. E. B., e. D. S., e. P. M. A., x. P. S., r. X.) are used for the characterization of deposits." Document : Thèse de Doctorat Etablissement_delivrance : Université de Toulouse 3 Date_soutenance : 29/05/1996 Domaine : Chimie Moléculaire et Matér. Localisation : LCC En ligne : https://theses.fr/1996TOU30072

Revêtements durs et adhérents par dépôt chimique / Michel Ducarroir

Public ISBD Titre : Revêtements durs et adhérents par dépôt chimique Titre original : Hard and adherent coatings by chemical vapour deposition Type de document : texte imprimé Auteurs : Michel Ducarroir, Éditeur scientifique Editeur : Paris : Elsevier Année de publication : 1998 Collection : Annales de chimie, science des matériaux, ISSN 0151-9107 num. 23, 5-6 Importance : p. 629-898 Format : 24 cm Langues : Français (fre) Anglais (eng) Catégories : Méthodes d'Analyses Tags : REVETEMENT DUR  DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  HARD COATING  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION Index. décimale : B-B Note de contenu : "* Précurseurs métallorganiques pour le dépôt chimique à partir d'une phase gazeuse de revêtements dans le système Ti-V-C-N * Problèmes spécifiques liés à la vaporisation des précurseurs organométalliques solides utilisés pour les dépôts dans le système V-C-N * Mécanisme de décomposition des composés M(NEt2)4(M = V, Cr) lors de leur utilisation comme mono source pour la croissance de films M-C-N par MOCVD * Dépôt de Cr à basse température par MOCVD : inhibition de l'incorporation du carbone * Dépôt chimique en phase vapeur à basse température de revêtements dans le système V-C-N à partir de bis(arene)vanadium * Prétraitements de nitruration compatibles avec les procédés MOCVD et PACVD : influence sur l'adhérence de revêtements céramiques sur acier." Cote : B-B145 (SdS) Num_Inv : 2386 Revêtements durs et adhérents par dépôt chimique = Hard and adherent coatings by chemical vapour deposition [texte imprimé] / Michel Ducarroir, Éditeur scientifique . - Paris : Elsevier, 1998 . - p. 629-898 ; 24 cm. - (Annales de chimie, science des matériaux, ISSN 0151-9107; 23, 5-6) . Langues : Français (fre) Anglais (eng) Catégories : Méthodes d'Analyses Tags : REVETEMENT DUR  DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  HARD COATING  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION Index. décimale : B-B Note de contenu : "* Précurseurs métallorganiques pour le dépôt chimique à partir d'une phase gazeuse de revêtements dans le système Ti-V-C-N * Problèmes spécifiques liés à la vaporisation des précurseurs organométalliques solides utilisés pour les dépôts dans le système V-C-N * Mécanisme de décomposition des composés M(NEt2)4(M = V, Cr) lors de leur utilisation comme mono source pour la croissance de films M-C-N par MOCVD * Dépôt de Cr à basse température par MOCVD : inhibition de l'incorporation du carbone * Dépôt chimique en phase vapeur à basse température de revêtements dans le système V-C-N à partir de bis(arene)vanadium * Prétraitements de nitruration compatibles avec les procédés MOCVD et PACVD : influence sur l'adhérence de revêtements céramiques sur acier." Cote : B-B145 (SdS) Num_Inv : 2386

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2386	B-B145	Texte imprimé	Bibliothèque	Livre	Disponible