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Complexes du titane et du vanadium. Vers le système céramique quaternaire V.Ti.C.N. par dépôt chimique en phase vapeur / Danjoy, Christine  

Public ISBD Titre : Complexes du titane et du vanadium. Vers le système céramique quaternaire V.Ti.C.N. par dépôt chimique en phase vapeur Type de document : texte imprimé Auteurs : Danjoy, Christine, Auteur ; Valade, Lydie, Directeur de thèse Année de publication : 1996 Langues : Français (fre) Tags : PRÉCURSEURS ORGANOMÉTALLIQUES  DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  ANALYSE THERMOGRAVIMÉTRIQUE  SPECTROMÉTRIE DE MASSE  NITRURE  VANADIUM  CARBURE  TITANE Résumé : "Cette thèse rend compte d'une étude de faisabilité d'une céramique quaternaire carbonitrure de titane et de vanadium (V. Ti. C. N. ), par dépôt chimique en phase vapeur a partir de précurseurs organométalliques (O. M. C. V. D. ). La première approche de ce problème a consiste en la formation de cette céramique a partir de la co-décomposition de deux composes organométalliques, l'un précurseur de carbonitrure titane, CpTiCl?N(SiMe?)? (Cp = C?H?, Me = CH?) ; l'autre précurseur de carbure de vanadium, Cp?VMe?(Cp = C?H?, Me = CH?). La seconde approche a été basée sur la synthèse d'un précurseur unique hétérobimétallique du titane et du vanadium. Un complexe bimétallique a été synthétisé et caractérisé Cp?Ti(C=CC?H?)(C=CCH?)VCp?. Ce travail a impliqué une part importante de synthèse chimique de composés organométalliques et leur caractérisation, notamment par analyse thermogravimétrique et différentielle couplée à la spectrométrie de masse des effluents gazeux de décomposition. Les résultats obtenus ont permis de sélectionner, parmi les composes synthétises, ceux qui offrent les caractéristiques répondant au mieux aux critères CVD et a ceux spécifies dans le contrat optimisation de revêtements durs et adhérents par dépôts chimiques qui a finance ce travail. Des revêtements sur acier ont ensuite été élaborés par C. V. D. à partir de Cp?VMe? et de CpTiCl?N(SiMe?)?. Les films ont été caractérisés par les techniques habituelles d'analyse de surfaces X.P.S., E.D.S., diffraction des rayons X et microscopie électronique." Document : Thèse de doctorat Etablissement_delivrance : Toulouse INPT Date_soutenance : 01/10/1996 Domaine : Chimie moléculaire et matériaux Localisation : LCC En ligne : http://www.theses.fr/1996INPT015G Complexes du titane et du vanadium. Vers le système céramique quaternaire V.Ti.C.N. par dépôt chimique en phase vapeur [texte imprimé] / Danjoy, Christine, Auteur ; Valade, Lydie, Directeur de thèse . - 1996. Langues : Français (fre) Tags : PRÉCURSEURS ORGANOMÉTALLIQUES  DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  ANALYSE THERMOGRAVIMÉTRIQUE  SPECTROMÉTRIE DE MASSE  NITRURE  VANADIUM  CARBURE  TITANE Résumé : "Cette thèse rend compte d'une étude de faisabilité d'une céramique quaternaire carbonitrure de titane et de vanadium (V. Ti. C. N. ), par dépôt chimique en phase vapeur a partir de précurseurs organométalliques (O. M. C. V. D. ). La première approche de ce problème a consiste en la formation de cette céramique a partir de la co-décomposition de deux composes organométalliques, l'un précurseur de carbonitrure titane, CpTiCl?N(SiMe?)? (Cp = C?H?, Me = CH?) ; l'autre précurseur de carbure de vanadium, Cp?VMe?(Cp = C?H?, Me = CH?). La seconde approche a été basée sur la synthèse d'un précurseur unique hétérobimétallique du titane et du vanadium. Un complexe bimétallique a été synthétisé et caractérisé Cp?Ti(C=CC?H?)(C=CCH?)VCp?. Ce travail a impliqué une part importante de synthèse chimique de composés organométalliques et leur caractérisation, notamment par analyse thermogravimétrique et différentielle couplée à la spectrométrie de masse des effluents gazeux de décomposition. Les résultats obtenus ont permis de sélectionner, parmi les composes synthétises, ceux qui offrent les caractéristiques répondant au mieux aux critères CVD et a ceux spécifies dans le contrat optimisation de revêtements durs et adhérents par dépôts chimiques qui a finance ce travail. Des revêtements sur acier ont ensuite été élaborés par C. V. D. à partir de Cp?VMe? et de CpTiCl?N(SiMe?)?. Les films ont été caractérisés par les techniques habituelles d'analyse de surfaces X.P.S., E.D.S., diffraction des rayons X et microscopie électronique." Document : Thèse de doctorat Etablissement_delivrance : Toulouse INPT Date_soutenance : 01/10/1996 Domaine : Chimie moléculaire et matériaux Localisation : LCC En ligne : http://www.theses.fr/1996INPT015G

Etude de composés organométalliques du titane précurseurs de carbures, nitrures et siliciures par dépôt chimique en phase vapeur / Chansou, Benoît  

Public ISBD Titre : Etude de composés organométalliques du titane précurseurs de carbures, nitrures et siliciures par dépôt chimique en phase vapeur Type de document : texte imprimé Auteurs : Chansou, Benoît, Auteur ; Valade, Lydie, Directeur de thèse Année de publication : 1996 Langues : Français (fre) Tags : THERMOGRAVIMETRIE  COUCHES MINCES  TITANE COMPOSES ORGANIQUES  DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR Résumé : "Le recouvrement de pieces massives par des films minces ceramiques permet d'ajouter des proprietes de surface (mecanique, electronique, optique,) aux proprietes de volume inherentes a la piece. Parmi les nombreuses techniques permettant la realisation des films ceramiques, l'o. M. C. V. D. (depot chimique en phase vapeur a partir de composes organometalliques) possede le double avantage de permettre des depots a basse temperature et sur des pieces de formes complexes. Ce memoire rend compte de la synthese et de l'etude de composes organometalliques precurseurs potentiels de carbures, nitrures et siliciures de titane. L'etude du comportement thermique des composes synthetises, effectuee par analyse thermique gravimetrique et analyse thermique differentielle, couplees a de la spectrometrie de masse, permet d'etudier le transport des composes en phase gazeuse et la correlation entre les produits issus de leur decomposition et les ceramiques desirees. Ces etudes sont mises a profit lors de la realisation des depots par c. V. D. En permettant un choix judicieux des parametres experimentaux. Les techniques d'analyse de surface habituelles (m. E. B. , e. D. S. , e. P. M. A. , x. P. S. , r. X. ) sont utilisees pour la caracterisation des depots." Document : Thèse de doctorat Etablissement_delivrance : Université de Toulouse 3 Date_soutenance : 29/05/1996 Domaine : Chimie moléculaire et Matériaux Localisation : LCC En ligne : http://www.theses.fr/1996TOU30072 Etude de composés organométalliques du titane précurseurs de carbures, nitrures et siliciures par dépôt chimique en phase vapeur [texte imprimé] / Chansou, Benoît, Auteur ; Valade, Lydie, Directeur de thèse . - 1996. Langues : Français (fre) Tags : THERMOGRAVIMETRIE  COUCHES MINCES  TITANE COMPOSES ORGANIQUES  DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR Résumé : "Le recouvrement de pieces massives par des films minces ceramiques permet d'ajouter des proprietes de surface (mecanique, electronique, optique,) aux proprietes de volume inherentes a la piece. Parmi les nombreuses techniques permettant la realisation des films ceramiques, l'o. M. C. V. D. (depot chimique en phase vapeur a partir de composes organometalliques) possede le double avantage de permettre des depots a basse temperature et sur des pieces de formes complexes. Ce memoire rend compte de la synthese et de l'etude de composes organometalliques precurseurs potentiels de carbures, nitrures et siliciures de titane. L'etude du comportement thermique des composes synthetises, effectuee par analyse thermique gravimetrique et analyse thermique differentielle, couplees a de la spectrometrie de masse, permet d'etudier le transport des composes en phase gazeuse et la correlation entre les produits issus de leur decomposition et les ceramiques desirees. Ces etudes sont mises a profit lors de la realisation des depots par c. V. D. En permettant un choix judicieux des parametres experimentaux. Les techniques d'analyse de surface habituelles (m. E. B. , e. D. S. , e. P. M. A. , x. P. S. , r. X. ) sont utilisees pour la caracterisation des depots." Document : Thèse de doctorat Etablissement_delivrance : Université de Toulouse 3 Date_soutenance : 29/05/1996 Domaine : Chimie moléculaire et Matériaux Localisation : LCC En ligne : http://www.theses.fr/1996TOU30072

Revêtements durs et adhérents par dépôt chimique / Michel Ducarroir

Public ISBD Titre : Revêtements durs et adhérents par dépôt chimique Titre original : Hard and adherent coatings by chemical vapour deposition Type de document : texte imprimé Auteurs : Michel Ducarroir, Éditeur scientifique Editeur : Paris : Elsevier Année de publication : 1998 Collection : Annales de chimie, science des matériaux, ISSN 0151-9107 num. 23, 5-6 Importance : p. 629-898 Format : 24 cm Langues : Français (fre) Anglais (eng) Catégories : Technologies, Méthodes, Réactions Tags : REVETEMENT DUR  DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  HARD COATING  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION Index. décimale : B-B Note de contenu : "* Précurseurs métallorganiques pour le dépôt chimique à partir d'une phase gazeuse de revêtements dans le système Ti-V-C-N * Problèmes spécifiques liés à la vaporisation des précurseurs organométalliques solides utilisés pour les dépôts dans le système V-C-N * Mécanisme de décomposition des composés M(NEt2)4(M = V, Cr) lors de leur utilisation comme mono source pour la croissance de films M-C-N par MOCVD * Dépôt de Cr à basse température par MOCVD : inhibition de l'incorporation du carbone * Dépôt chimique en phase vapeur à basse température de revêtements dans le système V-C-N à partir de bis(arene)vanadium * Prétraitements de nitruration compatibles avec les procédés MOCVD et PACVD : influence sur l'adhérence de revêtements céramiques sur acier." Cote : B-B145 (SdS) Num_Inv : 2386 Revêtements durs et adhérents par dépôt chimique = Hard and adherent coatings by chemical vapour deposition [texte imprimé] / Michel Ducarroir, Éditeur scientifique . - Paris : Elsevier, 1998 . - p. 629-898 ; 24 cm. - (Annales de chimie, science des matériaux, ISSN 0151-9107; 23, 5-6) . Langues : Français (fre) Anglais (eng) Catégories : Technologies, Méthodes, Réactions Tags : REVETEMENT DUR  DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  HARD COATING  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION Index. décimale : B-B Note de contenu : "* Précurseurs métallorganiques pour le dépôt chimique à partir d'une phase gazeuse de revêtements dans le système Ti-V-C-N * Problèmes spécifiques liés à la vaporisation des précurseurs organométalliques solides utilisés pour les dépôts dans le système V-C-N * Mécanisme de décomposition des composés M(NEt2)4(M = V, Cr) lors de leur utilisation comme mono source pour la croissance de films M-C-N par MOCVD * Dépôt de Cr à basse température par MOCVD : inhibition de l'incorporation du carbone * Dépôt chimique en phase vapeur à basse température de revêtements dans le système V-C-N à partir de bis(arene)vanadium * Prétraitements de nitruration compatibles avec les procédés MOCVD et PACVD : influence sur l'adhérence de revêtements céramiques sur acier." Cote : B-B145 (SdS) Num_Inv : 2386

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2386	B-B145	Texte imprimé	Bibliothèque	Livre	Disponible