Optimisation de revêtements durs et adhérents par dépôt chimique / Michel Ducarroir

Public ISBD Titre : Optimisation de revêtements durs et adhérents par dépôt chimique Type de document : texte imprimé Auteurs : Michel Ducarroir, Auteur Editeur : Paris : Elsevier Année de publication : 1998 Collection : Annales de chimie, science des matériaux, ISSN 0151-9107 Langues : Français (fre) Index. décimale : B-S Ancien fonds Cote : B-S012 Num_Inv : 1905 Localisation : LCC (SdS) Optimisation de revêtements durs et adhérents par dépôt chimique [texte imprimé] / Michel Ducarroir, Auteur . - Paris : Elsevier, 1998. - (Annales de chimie, science des matériaux, ISSN 0151-9107) . Langues : Français (fre) Index. décimale : B-S Ancien fonds Cote : B-S012 Num_Inv : 1905 Localisation : LCC (SdS)

Exemplaires(1)

Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité
1905	B-S012	Texte imprimé	Bibliothèque	Livre	Disponible

Revêtements durs et adhérents par dépôt chimique / Michel Ducarroir

Public ISBD Titre : Revêtements durs et adhérents par dépôt chimique Titre original : Hard and adherent coatings by chemical vapour deposition Type de document : texte imprimé Auteurs : Michel Ducarroir, Éditeur scientifique Editeur : Paris : Elsevier Année de publication : 1998 Collection : Annales de chimie, science des matériaux, ISSN 0151-9107 num. 23, 5-6 Importance : p. 629-898 Format : 24 cm Langues : Français (fre) Anglais (eng) Catégories : Méthodes d'Analyses Tags : REVETEMENT DUR  DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  HARD COATING  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION Index. décimale : B-B Note de contenu : "* Précurseurs métallorganiques pour le dépôt chimique à partir d'une phase gazeuse de revêtements dans le système Ti-V-C-N * Problèmes spécifiques liés à la vaporisation des précurseurs organométalliques solides utilisés pour les dépôts dans le système V-C-N * Mécanisme de décomposition des composés M(NEt2)4(M = V, Cr) lors de leur utilisation comme mono source pour la croissance de films M-C-N par MOCVD * Dépôt de Cr à basse température par MOCVD : inhibition de l'incorporation du carbone * Dépôt chimique en phase vapeur à basse température de revêtements dans le système V-C-N à partir de bis(arene)vanadium * Prétraitements de nitruration compatibles avec les procédés MOCVD et PACVD : influence sur l'adhérence de revêtements céramiques sur acier." Cote : B-B145 (SdS) Num_Inv : 2386 Revêtements durs et adhérents par dépôt chimique = Hard and adherent coatings by chemical vapour deposition [texte imprimé] / Michel Ducarroir, Éditeur scientifique . - Paris : Elsevier, 1998 . - p. 629-898 ; 24 cm. - (Annales de chimie, science des matériaux, ISSN 0151-9107; 23, 5-6) . Langues : Français (fre) Anglais (eng) Catégories : Méthodes d'Analyses Tags : REVETEMENT DUR  DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR  HARD COATING  CHEMICAL VAPOR DEPOSITION Index. décimale : B-B Note de contenu : "* Précurseurs métallorganiques pour le dépôt chimique à partir d'une phase gazeuse de revêtements dans le système Ti-V-C-N * Problèmes spécifiques liés à la vaporisation des précurseurs organométalliques solides utilisés pour les dépôts dans le système V-C-N * Mécanisme de décomposition des composés M(NEt2)4(M = V, Cr) lors de leur utilisation comme mono source pour la croissance de films M-C-N par MOCVD * Dépôt de Cr à basse température par MOCVD : inhibition de l'incorporation du carbone * Dépôt chimique en phase vapeur à basse température de revêtements dans le système V-C-N à partir de bis(arene)vanadium * Prétraitements de nitruration compatibles avec les procédés MOCVD et PACVD : influence sur l'adhérence de revêtements céramiques sur acier." Cote : B-B145 (SdS) Num_Inv : 2386

Exemplaires(1)

Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité
2386	B-B145	Texte imprimé	Bibliothèque	Livre	Disponible

---

1 (1 - 2 / 2) Par page : 25 50 100 200